Vui lòng liên hệ với chúng tôi– chúng tôi sẽ liên hệ lại với khách hàng bằng điện thoại hoặc email.
Lưu ý: Tham khảo ý kiến của nhân viên INO sẽ giúp bạn tiết kiệm được thời gian và chi phí khi cần mua sắm. Với sự tư vấn của chúng tôi, bạn sẽ không gặp khó khăn khi tìm hiểu về đặc tính của sản phẩm cần mua.
Multi Vision Metrology SEM supports next-generation wafers
The E3310 is a WAFER MVM-SEM®* for next generation wafers, supporting 1Xnm node process development and volume production at the 22nm node and beyond. With its high-speed carrier system employing a dual arm vacuum robot, and low-vibration platform to improve measurement accuracy, the E3310 delivers high throughput and performance for wafer measurements. Its multi detector configuration and unique 3D measurement algorithm also enable stable, high-accuracy measurement of 3D transistor technologies such as FinFET. The E3310 makes a significant contribution to reducing process development turnaround time and improves productivity for next-generation devices
- Advanced electron-optical column design for high resolution measurement
- Supports evolving wafer processes such as 3D measurement
- 3D topography imaging
- High Stable, Fully Automatic Image Capture
- Supports evolving wafer processes
- Rich range of applications
| Rich range of applications | Silicon wafer, AlTiC wafer, Quartz wafer, Silicon carbide wafer |
|---|---|
| Wafer size | supported: 150mm – 300mm (depends on wafer type) |
Resource & Download
Lưu ý: Nếu một thiết bị nào đó không được liệt kê ở đây, điều đó không có nghĩa rằng chúng tôi không hỗ trợ được bạn về thiết bị đó. Hãy liên hệ với chúng tôi để biết danh sách đầy đủ về thiết bị mà chúng tôi có thể hỗ trợ và cung cấp.
INO: Bán, Báo giá, tư vấn mua sắm và cung cấp, tư vấn sản phẩm thay thế; tương đương, hướng dẫn sử dụng, giá…VNĐ, …USD info@ino.com.vn | INO Sales: 028 73000184 | Advantest-Multi Vision Metrology SEM supports next-generation wafers (Model:E3310).
